[发明专利]选择性刻蚀液组合物及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201910520709.7 | 申请日： | 2019-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN111363550A | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 王溯;蒋闯;季峥;李成克 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06;H01L21/306;H01L21/311 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 王卫彬;马续红 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种选择性刻蚀液组合物及其制备方法和应用。本发明的选择性刻蚀液组合物，其包括以下组分：添加剂、磷酸和水，所述添加剂为式1化合物和/或式2化合物。本发明的选择性刻蚀液组合物可选择性移除高达192层堆叠设计的NAND中的氮化物膜层，其氧化物膜层没有出现过刻蚀或负刻蚀，且可多次使用，没有出现颗粒析出。 |
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| 搜索关键词： | 选择性 刻蚀 组合 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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