[发明专利]一种减小硫化铟半导体光学带隙的方法在审

专利信息
申请号: 201910531150.8 申请日: 2019-06-19
公开(公告)号: CN112201710A 公开(公告)日: 2021-01-08
发明(设计)人: 赵春燕;张栋栋;陈平 申请(专利权)人: 上海电机学院
主分类号: H01L31/0296 分类号: H01L31/0296;H01L31/0216
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 杨元焱
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种减小In2S3半导体光学带隙的方法,具体在于以In2S3二元硫化物为母体半导体,通过Sn元素掺杂调控其能带,形成化学分子式为In2‑xSnxS3(0.04≤x≤0.2)的半导体。与现有技术相比,本发明通过对In2S3半导体掺杂Sn元素,可以大幅度减小In2S3半导体材料的禁带宽度,增加其对太阳能光谱的吸收能力,从而扩大In2S3半导体材料的利用范围,使其可以直接用作太阳能电池吸收材料,对太阳能电池的发展具有实际意义。
搜索关键词: 一种 减小 硫化 半导体 光学 方法
【主权项】:
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