[发明专利]一种不等高金属光栅及其制作方法有效
| 申请号： | 201910536717.0 | 申请日： | 2019-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN110361801B | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 张凯平;刘宇;张培文;赵盛杰;路程;胡媛;刘明 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B5/00 |
| 代理公司： | 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 | 代理人： | 王胜利 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种不等高金属光栅的制作方法，包括：在衬底上制作种子层；在所述种子层上涂覆光刻胶，制作等间距排列的第一光栅图形；通过电镀形成第一金属栅线；在所述第一光栅图形上涂覆光刻胶，制作等间距排列的第二光栅图形，所述第二光栅图形的光栅常数大于所述第一光栅图形的光栅常数；再次进行电镀，形成第二金属栅线；去除光刻胶，并刻蚀去除没被遮掩的种子层。还公开了一种不等高金属光栅，形成一种双周期的金属光栅结构，具有较多的优化参数使得调整更加灵活，从而达到更好的光学性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 不等 金属 光栅 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种不等高金属光栅的制作方法，其特征在于，包括：在衬底上制作种子层；在所述种子层上涂覆光刻胶，对涂覆在所述种子层的光刻胶进行光栅曝光和光栅显影，形成所述第一光栅图形，以使所述种子层暴露出来；通过电镀形成第一金属栅线；在所述第一光栅图形上涂覆光刻胶，制作等间距排列的第二光栅图形，所述第二光栅图形的光栅常数大于所述第一光栅图形的光栅常数；再次进行电镀，形成第二金属栅线；去除光刻胶，并刻蚀去除没被遮掩的种子层。
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