[发明专利]一种陶瓷靶材及其制备方法有效
| 申请号： | 201910536983.3 | 申请日： | 2019-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN110171974B | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 沈文兴;朱刘;童培云;白平平 | 申请（专利权）人： | 先导薄膜材料（广东）有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/547 | 分类号： | C04B35/547 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 刘猛 |
| 地址： | 511517 广东省清*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： |
本发明涉及溅射靶材技术领域，尤其涉及一种陶瓷靶材及其制备方法。所述制备方法包括：A)将所述铜锌锡硒粉体与氟化铷粉体进行均质混合，所述均质混合后的粉体经预压后，得到坯体；B)在真空的条件下，将所述坯体加热至200～400℃，进行保温；C)然后加热至600～700℃，保温后在25～50MPa下进行热压烧结，降温、减压后，得到靶坯；D)对所述靶坯进行机械加工，得到陶瓷靶材。采用本发明提供的制备方法制得的陶瓷靶材的纯度和密度均较高，组分均匀。为制备高性能掺杂靶材提供一定的理论参考。结果表明，本发明制备的陶瓷靶材的纯度99.99％，密度为5.53～5.58g/cm |
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| 搜索关键词： | 一种 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种陶瓷靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：A)将所述铜锌锡硒粉体与氟化铷粉体进行均质混合，所述均质混合后的粉体经预压后，得到坯体；B)在真空的条件下，将所述坯体加热至200～400℃，进行保温；C)然后加热至600～700℃，保温后在25～50MPa下进行热压烧结，降温、减压后，得到靶坯；D)对所述靶坯进行机械加工，得到陶瓷靶材。
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