[发明专利]等离子体处理设备及等离子体处理系统有效
| 申请号： | 201910538315.4 | 申请日： | 2019-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN112117176B | 公开（公告）日： | 2023-03-07 |
| 发明（设计）人： | 范德宏;左涛涛 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种等离子体处理设备及其包含等离子体处理设备的等离子体处理系统，其中，等离子体处理设备包括：基片处理腔；气体供应单元，用于向基片处理腔内输送反应气体；位于基片处理腔内的基座，基座用于承载待处理基片；位于基片处理腔上的第一壳体，第一壳体具有气体通道，气体通道用于释放第一壳体内的第一气体；位于第一壳体内的电感线圈，电感线圈用于使反应气体转化为等离子体；位于基片处理腔下方的第二壳体，气体通道的端口朝向第二壳体；位于第二壳体内的抽真空装置，抽真空装置用于使基片处理腔内为真空环境；位于第二壳体下方的抽气装置，抽气装置用于将第一气体从第二壳体周围抽走。所述等离子体处理设备的性能较好。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 设备 系统 | ||
【主权项】：
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