[发明专利]掩膜板、掩膜装置及其应用方法在审
申请号: | 201910540107.8 | 申请日: | 2019-06-21 |
公开(公告)号: | CN110241384A | 公开(公告)日: | 2019-09-17 |
发明(设计)人: | 肖世艳 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;C23C14/34;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 为实现OLED CUP技术,本发明提供一种掩膜板、掩膜装置及掩膜板的应用方法,掩膜板用于基板成膜,所述基板包括一预设的开孔区,所述掩膜板被一分隔线分为遮光区和开口区两部分;所述掩膜板包括一遮挡区;当所述掩膜板与所述基板被对位设置时,所述遮挡区在所述基板表面的投影位于所述开孔区内;本发明提供一种掩膜板、掩膜装置及掩膜板的应用方法,使用两种不同的掩膜板对同一基板表面先后进行二次沉积处理,使得基板上表面除被遮挡区外的每处位置都被涂覆成膜,且不会产生附膜重叠的现象,可以提高有机材料在通孔周边区域成膜的均匀性,防止基板表面的同一位置存在多个不同色的子像素,从而可以防止混色或者色偏的现象产生,提高显示面板的质量。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 掩膜装置 遮挡区 基板表面 成膜 基板 应用 基板上表面 二次沉积 基板成膜 通孔周边 同一基板 同一位置 显示面板 有机材料 均匀性 开孔区 开口区 遮光区 子像素 对位 附膜 隔线 混色 开孔 色偏 涂覆 预设 投影 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板,用于基板成膜,其特征在于,所述基板包括一预设的开孔区,所述掩膜板被一分隔线分为遮光区和开口区两部分;所述掩膜板包括一遮挡区,突出于所述遮光区的一侧边,该侧边在所述分隔线处连接至所述开口区,当所述掩膜板与所述基板被对位设置时,所述遮挡区在所述基板表面的投影位于所述开孔区内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910540107.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类