[发明专利]用于对相位掩膜进行校准的方法和显微镜有效
| 申请号： | 201910542603.7 | 申请日： | 2019-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN110632726B | 公开（公告）日： | 2023-05-23 |
| 发明（设计）人： | 托尼·艾歇尔克劳特;约尔格·西本莫根 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司显微镜有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B7/00 | 分类号： | G02B7/00;G02B21/00;G01N21/64 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 杨靖;韩毅 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于对相位掩膜进行校准的方法和显微镜，特别是用于对尤其为显微镜的光学设备的光路内的相位掩膜、尤其是SLM进行校准的方法，包括以下方法步骤：相继地以灰度值的不同模式驱控相位掩膜，分段的第一子集的第一灰度值保持恒定，分段的第二子集的第二灰度值以从一个模式变到下一模式的方式变化，给相位掩膜加载以光学设备的光，针对不同的模式在相位掩膜射束下游测量光路内的光的总强度的至少一部分，获得测得的强度依赖于第二灰度值的特征变化曲线，从特征变化曲线获得第二灰度值与通过相位掩膜赋予的相移之间的关系，基于所获得的灰度值与相移之间的关系校准对相位掩膜的驱控。本发明还涉及一种适用于执行根据本发明的方法的显微镜。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 相位 进行 校准 方法 显微镜 | ||
【主权项】：
1.用于对尤其为显微镜(100)的光学设备的光路内的相位掩膜、尤其是SLM进行校准的方法，在所述方法中执行以下方法步骤：/n相继地以灰度值(G)的不同模式(Gi(x,y))来驱控所述相位掩膜(80)，/n其中，分段的第一子集(91)的第一灰度值(G1)保持恒定，并且其中，使分段的第二子集(92)的第二灰度值(G2)以从一个模式(Gi(x,y))变到下一模式(Gj(x,y))的方式变化，给所述相位掩膜(80)加载以所述光学设备(100)的光，/n针对不同的模式(Gi(x,y))在所述相位掩膜(80)射束下游测量所述光路内的光的总强度的至少一部分(I)，并且获得测得的强度(I)依赖于所述第二灰度值(G2)的特征变化曲线(I(G2))，/n从所述特征变化曲线(I(G2))获得所述第二灰度值(G2)和通过所述相位掩膜(80)赋予的相移
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司显微镜有限责任公司，未经卡尔蔡司显微镜有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910542603.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
