[发明专利]深度的检测系统和方法在审
| 申请号： | 201910544426.6 | 申请日： | 2019-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN110133676A | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 杨萌;李建军;戴付建;赵烈烽 | 申请（专利权）人： | 浙江舜宇光学有限公司 |
| 主分类号： | G01S17/08 | 分类号： | G01S17/08 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 董文倩 |
| 地址： | 315499 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种深度的检测系统和方法。该检测系统包括：光源装置，用于发射调制光；起偏设备，位于光源装置的光出射侧，起偏设备用于将调制光调整为具有预定偏振方向的偏振光；成像设备，位于起偏设备的光出射侧，成像设备用于根据入射的反射光成像，形成二维图像，反射光为被被测对象反射的偏振光；处理单元，用于根据反射光在第一偏振方向的光强与在第二偏振方向的光强的比值将二维图像中分为第一部分和第二部分，还用于根据第一部分和第二部分中的一个计算被测对象的深度，第一偏振方向和第二偏振方向不同。该检测系统得到的深度较为准确，避免该深度为经过多次反射的深度的和。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振 检测系统 偏振光 被测对象 成像设备 二维图像 光源装置 调制光 反射光 光出射 光强 反射光成像 处理单元 多次反射 入射 反射 发射 申请 | ||
【主权项】：
1.一种深度的检测系统，其特征在于，包括：光源装置，用于发射调制光；起偏设备，位于所述光源装置的光出射侧，所述起偏设备用于将所述调制光调整为具有预定偏振方向的偏振光；成像设备，位于所述起偏设备的光出射侧，所述成像设备用于根据入射的反射光成像，形成二维图像，所述反射光为被被测对象反射的所述偏振光；处理单元，用于根据所述反射光在第一偏振方向的光强与在第二偏振方向的光强的比值将所述二维图像中分为第一部分和第二部分，还用于根据所述第一部分和所述第二部分中的一个计算所述被测对象的深度，所述第一偏振方向和所述第二偏振方向不同。
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