[发明专利]一种用于显晶类水晶表面的集中处理系统

摘要

本发明公开了一种用于显晶类水晶表面的集中处理系统，包括处理器外壳，所述处理器外壳内设有工作空间，所述工作空间右端壁安装有驱动机构，所述驱动机构左侧设有表面处理机构，所述表面处理机构包括可转动的螺纹块，所述螺纹块上螺纹连接有第一锥齿轮与第二锥齿轮，所述第二锥齿轮位于所述第一锥齿轮下侧，所述第一锥齿轮与所述表面处理机构啮合传动，本装置可对显晶类水晶表面进行自动化的处理，可根据要处理的显晶类水晶表面范围进行调节装置运动范围，从而进行集中处理，且根据显晶类水晶的高度调节表面处理器高度，从上到下进行全方面的处理，处理较为全面。

主权项

1.一种用于显晶类水晶表面的集中处理系统，包括处理器外壳，其特征在于：所述处理器外壳内设有工作空间，所述工作空间右端壁安装有驱动机构；所述驱动机构左侧设有表面处理机构，所述表面处理机构包括可转动的螺纹块，所述螺纹块上螺纹连接有第一锥齿轮与第二锥齿轮，所述第二锥齿轮位于所述第一锥齿轮下侧，所述第一锥齿轮与所述表面处理机构啮合传动，所述螺纹块左侧设有表面处理器，所述工作空间下端壁安装有安放台，通过所述第一锥齿轮与所述驱动机构的啮合传动可带动所述表面处理器绕所述螺纹块进行转动，从而对放置在所述安放台上端面的显晶类水晶进行表面处理；所述工作空间上端壁内设有开口朝下的环形槽，所述环形槽内设有控制机构，所述控制机构用于控制所述表面处理机构的运动轨迹；所述工作空间左端壁内设有开口向右的窄腔，所述窄腔内设有下降机构，所述下降机构包括可左右滑动的细杆，所述细杆可将所述表面处理器等时间间隔向下推动，以便对显晶类水晶从上到下全面处理。