[发明专利]一种缝隙耦合型微纳光学结构在审

专利信息
申请号: 201910547675.0 申请日: 2019-06-24
公开(公告)号: CN110243764A 公开(公告)日: 2019-09-17
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 中山科立特光电科技有限公司
主分类号: G01N21/19 分类号: G01N21/19;G01N21/01;G02B5/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 528458 广东省中*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及微纳光学技术领域,具体涉及一种缝隙耦合型微纳光学结构,包括一金属膜,金属膜上设有不少于一个的矩形孔,每个矩形孔内均设有一L形结构,L形结构包括第一金属条和第二金属条,第一金属条垂直连接于第二金属条一端,第一金属条与矩形孔的一条边平行L形结构由贵金属制成。利用第一金属条和第二金属条在矩形孔内形成两条间隙第一间隙和第二间隙,将手性电磁场局域到矩形孔与第一金属条和第二金属条之间的间隙,从而增强入射光和本发明缝隙耦合型微纳光学结构的耦合,使得该微纳光学结构的圆二色性得到了增强。
搜索关键词: 金属条 微纳光学 矩形孔 缝隙耦合 金属膜 垂直连接 圆二色性 电磁场 贵金属 耦合 入射光 手性 条边 平行
【主权项】:
1.一种缝隙耦合型微纳光学结构,其特征在于,包括一金属膜,所述金属膜上设有不少于一个的矩形孔;所述每个矩形孔内均设有一L形结构;所述L形结构包括第一金属条和第二金属条;所述第一金属条垂直连接于所述第二金属条一端;所述第一金属条与所述矩形孔的一条边平行;所述L形结构由贵金属制成。
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