[发明专利]一种超硬强韧TiSiCN硬质涂层的制备方法有效
申请号: | 201910548524.7 | 申请日: | 2019-06-24 |
公开(公告)号: | CN110129742B | 公开(公告)日: | 2022-03-11 |
发明(设计)人: | 田修波;孔营;巩春志;吴厚朴;田钦文 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/06;C23C14/02 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人: | 岳泉清 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
一种超硬强韧TiSiCN硬质涂层的制备方法,它涉及一种超硬强韧TiSiCN硬质涂层的制备方法。本发明的目的是为了解决现有多弧工艺中加入TMS后,弧靶很容易中毒,导致放电不稳定、偏流降低,膜层质量不好的问题,本发明以氮气和由含碳、硅元素的有机硅为反应气体,经过基体的清洗干燥、离子增强辉光刻蚀、沉积过渡层、将TiSiCN涂层沉积于基体表面。本发明涂层具有高硬度以及优异的断裂韧性,克服了涂层硬度高但韧性不足的问题,膜的硬度高达47.1GPa,压痕韧性5.22MPa·m |
||
搜索关键词: | 一种 强韧 tisicn 硬质 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种超硬强韧TiSiCN硬质涂层的制备方法,其特征在于该制备方法按以下步骤进行:一、将外表面经抛光处理后的工件进行超声波清洗,干燥,得到基体;二、将基体置于真空环境中并旋转,通过离子增强辉光刻蚀溅射清洗基体;三、利用辅助阳极增强阴极弧技术沉积TiSiCN涂层,即完成制备:其中辅助阳极增强阴极弧技术的工艺参数为:有机硅的气流量为1‑200sccm;氮气的气流量为50‑1000sccm;弧流为50‑250A、时间1‑6h;辅助阳极电流10‑200A;沉积气压为0.2‑4.5Pa;基体温度为100‑600℃。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工业大学,未经哈尔滨工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910548524.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类