[发明专利]处理液温度调节装置、基板处理装置及处理液供给方法有效
申请号: | 201910549224.0 | 申请日: | 2019-06-24 |
公开(公告)号: | CN110648941B | 公开(公告)日: | 2023-07-14 |
发明(设计)人: | 上前昭司;吉田祥司;高桥和也;水上大乘;宫川纱希 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 宋晓宝;向勇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供能恰当调节向处理液罐返回的处理液的温度的处理液温度调节装置、供给方法及基板处理装置。温度调节装置调节包括:上游路,从供从处理液罐向基板处理单元供给的处理液通过的供给流路分支,而供向处理液罐返回的处理液流入;第一及第二分流路,与上游路的下游端连接,使处理液分流;下游路,与第一及第二分流路的下游端连接,使处理液合流并向处理液罐引导;冷却单元,冷却在第一分流路流动的处理液;流量比率变更单元,变更从上游路流入第一及第二分流路的处理液的流量的比率;下游温度检测单元,检测在下游路流动的处理液的温度;控制器,控制流量比率变更单元以使下游检测温度接近规定的目标温度。 | ||
搜索关键词: | 处理 温度 调节 装置 供给 方法 | ||
【主权项】:
1.一种处理液温度调节装置,对从处理液罐向基板处理单元供给的处理液的温度进行调节,其中,/n包括:/n上游路,从供给流路分支而供向所述处理液罐返回的处理液流入,所述供给流路供从所述处理液罐向所述基板处理单元供给的处理液通过;/n第一分流路以及第二分流路,与所述上游路的下游端连接,使从所述上游路流入的处理液分流;/n下游路,与所述第一分流路以及所述第二分流路的下游端连接,使从所述第一分流路以及所述第二分流路流入的处理液合流并向所述处理液罐引导;/n冷却单元,对在所述第一分流路内流动的处理液进行冷却;/n流量比率变更单元,变更从所述上游路流入所述第一分流路的处理液的流量和从所述上游路流入所述第二分流路的处理液的流量的比率;/n下游温度检测单元,检测在所述下游路内流动的处理液的温度;/n控制器,控制所述流量比率变更单元,以使由所述下游温度检测单元检测出的下游检测温度接近规定的目标温度。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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