[发明专利]一种铍材表面氮化钛膜层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910549811.X 申请日: 2019-06-24
公开(公告)号: CN110144555B 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 闫春和;崔砚;王长青;刘冰洋;腾海涛;肖健;齐岩;郭子忠 申请(专利权)人: 北京航天控制仪器研究所
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/16;C23C14/06
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 张丽娜
地址: 100854 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种铍材表面氮化钛(TiN)膜层及其制备方法,该方法采用多弧离子镀技术在铍材表面制备TiN膜层,属于表面处理技术领域。本发明实现了在铍材表面制备大厚度(厚度25微米‑50微米以上、高结合强度(拉拔结合强度大于8kg/mm2、膜层不脱落)、高硬度(HV2500以上)的TiN硬质膜层。本发明采用多弧离子镀技术在铍材表面制备TiN膜层,膜层厚度大、与基体结合良好、附着强度高、硬度高,能够显著提高铍材表面综合性能。
搜索关键词: 一种 表面 氮化 钛膜层 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种铍材表面氮化钛膜层,其特征在于:该氮化钛膜层的材料为氮化钛,厚度为25微米‑50微米,氮化钛膜层通过钛层与铍材表面连接。
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