[发明专利]一种面向第三代半导体材料的加工装置

摘要

本发明涉及第三代半导体材料技术领域，尤其涉及一种面向第三代半导体材料的加工装置，针对现有技术一体化程度低，转换速度慢等的问题，先提出如下解决方案，包括包括加工台，所述加工台内设有腐蚀室、清洗室以及烘干室，所述加工台的底部内设有安装腔，所述安装腔内设有转动机构，所述加工台上设有与转动机构连接的转盘，所述转盘的部分延伸至腐蚀室、清洗室以及烘干室内，所述转盘的上端周向等间距设有多个放置槽，其中三个所述放置槽分别位于腐蚀室、清洗室以及烘干室内，所述腐蚀室的内顶部安装有腐蚀机构。本发明结构合理，将腐蚀清洗、冲洗、烘干融为一体，一体化程度高，能够持续的进行上料加工。

主权项

1.一种面向第三代半导体材料的加工装置，包括加工台(11)，其特征在于，所述加工台(11)内设有腐蚀室(2)、清洗室(29)以及烘干室(1)，所述加工台(11)的底部内设有安装腔，所述安装腔内设有转动机构，所述加工台(11)上设有与转动机构连接的转盘(7)，所述转盘(7)的部分延伸至腐蚀室(2)、清洗室(29)以及烘干室(1)内，所述转盘(7)的上端周向等间距设有多个放置槽(26)，其中三个所述放置槽(26)分别位于腐蚀室(2)、清洗室(29)以及烘干室(1)内，所述腐蚀室(2)的内顶部安装有腐蚀机构，所述清洗室(29)的内顶部安装有清洗机构，所述烘干室(1)的内顶部安装有烘干机构，多个所述放置槽(26)的下方设有装置腔(19)，所述装置腔(19)内设有升降机构，所述放置槽(26)内设有与升降机构连接的放置板(25)，所述放置板(25)的外壁设有与放置槽(26)内壁接触的密封圈，所述转盘(7)的侧壁设有与放置槽(26)连通的排液口(24)，所述转盘(7)的上端设有安装槽(16)，所述安装槽(16)内设有与升降机构配合的驱动机构，所述腐蚀室(2)、清洗室(29)以及烘干室(1)的内底部均设有排液管，所述排液管内安装有阀门。