[发明专利]半导体激光器及其激光谐振腔、光学限制结构在审
| 申请号： | 201910553373.4 | 申请日： | 2019-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN110323670A | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | 刘建平;江灵荣;田爱琴;杨辉 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 主分类号： | H01S5/20 | 分类号： | H01S5/20;H01S5/10 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 215123 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体激光器及其激光谐振腔、光学限制结构。其中，光学限制结构包括波导层和设于波导层表面上的包覆层，包覆层的折射率小于波导层的折射率，包覆层用于反射从波导层射入包覆层的光线，包覆层为铝铟镓氮四元合金。激光谐振腔包括了上述的两个光学限制结构，两个光学限制结构的波导层彼此面对，从而实现沿激光器的生长方向上的光学限制。半导体激光器包括衬底和上述的激光谐振腔。本发明解决了现有技术中光学限制层结构难以具有较高的光学限制作用的同时，保持稳定的结构的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 光学限制 包覆层 波导层 激光谐振腔 半导体激光器 折射率 光学限制层 彼此面对 铝铟镓氮 生长方向 四元合金 激光器 衬底 反射 射入 | ||
【主权项】：
1.一种用于形成激光谐振腔的光学限制结构，其特征在于，包括波导层和设于所述波导层表面上的包覆层，所述包覆层的折射率小于所述波导层的折射率，所述包覆层用于反射从所述波导层射入所述包覆层的光线，其中，所述包覆层为铝铟镓氮四元合金。
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