[发明专利]基板处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质

摘要

本发明提供一种基板处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质，其目的在于根据工艺的类别和/或要形成的膜种类变更移载室的气体环境。基板处理装置具备：进气阻尼器及进气扇，它们与向连接于进行基板处理的处理室的移载室吸入空气的进气口连通；非活性气体导入管的阀，该非活性气体导入管向移载室供给非活性气体；排气扇及排气阀，它们设于移载室；切换机构，其从将移载室的气体环境设为空气环境的空气模式和将移载室的气体环境设为非活性气体环境的吹扫模式中选择某一模式；和控制机构，其通过对进气阻尼器及进气扇、非活性气体导入管的阀、和排气扇及排气阀分别进行控制来执行空气模式和吹扫模式中的某一模式。

主权项

1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：/n进气阻尼器及进气扇，它们与向移载室吸入空气的进气口连通，该移载室连接于进行基板的处理的处理室；/n非活性气体导入管的阀，该非活性气体导入管向所述移载室供给非活性气体；/n排气扇及排气阀，它们设于所述移载室；/n切换机构，其从将所述移载室的气体环境设为空气环境的空气模式和将所述移载室的气体环境设为非活性气体环境的吹扫模式中选择某一模式；和/n控制机构，其构成为通过对所述进气阻尼器及所述进气扇、所述非活性气体导入管的阀、和所述排气扇及所述排气阀分别进行控制，来执行所述空气模式和所述吹扫模式中的某一模式。/n