[发明专利]飞秒激光直写与DMD无掩膜光刻一体化打印设备在审
| 申请号： | 201910559021.X | 申请日： | 2019-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN110286564A | 公开（公告）日： | 2019-09-27 |
| 发明（设计）人： | 刘华 | 申请（专利权）人： | 东北师范大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 长春市吉利专利事务所 22206 | 代理人： | 李晓莉 |
| 地址： | 130024 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 飞秒激光直写与DMD无掩膜光刻一体化打印设备，属于光学技术领域，包括运动平台、DMD无掩膜光刻系统投影物镜调节套筒、DMD无掩膜光刻系统投影物镜、飞秒激光直写系统显微物镜调节套筒、飞秒激光直写系统显微物镜、样品架、三维精密可控位移平台、飞秒激光直写系统以及DMD无掩膜光刻系统。本发明同时具有DMD打印高效率、低成本的特点，和飞秒激光加工高分辨率、高精度的优点，对于毫米量级的原件，可节省加工时间80％以上，同时使用多种光敏材料，能够实现大型、复杂的包括微光学元器件在内的集成结构、生物支架结构以及微流控芯片等的加工。 | ||
| 搜索关键词： | 飞秒激光 无掩膜光刻系统 直写系统 打印设备 投影物镜 显微物镜 光刻 套筒 掩膜 直写 飞秒激光加工 光学技术领域 微流控芯片 高分辨率 光敏材料 毫米量级 集成结构 生物支架 位移平台 运动平台 一体化 低成本 高效率 微光学 样品架 可控 元器件 加工 精密 三维 打印 | ||
【主权项】：
1.飞秒激光直写与DMD无掩膜光刻一体化打印设备，其特征是：包括运动平台(1)、DMD无掩膜光刻系统投影物镜调节套筒(2)、DMD无掩膜光刻系统投影物镜(3)、飞秒激光直写系统显微物镜调节套筒(4)、飞秒激光直写系统显微物镜(5)、样品架(6)、三维精密可控位移平台(7)、飞秒激光直写系统(8)以及DMD无掩膜光刻系统(9)，所述运动平台(1)距离光学平台35厘米，所述DMD无掩膜光刻系统投影物镜调节套筒(2)和飞秒激光直写系统显微物镜调节套筒(4)均设置在运动平台(1)上，所述DMD无掩膜光刻系统投影物镜(3)设置在DMD无掩膜光刻系统投影物镜调节套筒(2)上，DMD无掩膜光刻系统投影物镜(3)与DMD无掩膜光刻系统(9)连接；所述飞秒激光直写系统显微物镜(5)设置在飞秒激光直写系统显微物镜调节套筒(4)上，飞秒激光直写系统显微物镜(5)与飞秒激光直写系统(8)连接；所述三维精密可控位移平台(7)与样品架(6)连接；所述飞秒激光直写系统(8)和DMD无掩膜光刻系统(9)均设置在光学平台上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东北师范大学，未经东北师范大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910559021.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种循环式扫描曝光机
- 下一篇：OPC建模装置及其形成方法、OPC建模方法
