[发明专利]银薄膜蚀刻液组合物及利用其的蚀刻方法和金属图案的形成方法有效
| 申请号： | 201910560651.9 | 申请日： | 2019-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN110644003B | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 南基龙;李原昊;尹暎晋;朴英哲 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/30 | 分类号： | C23F1/30;C23F1/02;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 金成哲;宋海花 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种银薄膜蚀刻液组合物及利用其的蚀刻方法和金属图案的形成方法，上述银薄膜蚀刻液组合物的特征在于，相对于组合物总重量,包含：(A)硝酸7～15重量％；(B‑1)碳原子数1～3的烷基磺酸3～8重量％；(B‑2)烷基磺酸以外的有机酸25～65重量％；(C)有机酸的盐0.1～7重量％；(D)硫酸盐5～25重量％；及(E)余量的水，上述(D)硫酸盐包含选自由硫酸氢钾、硫酸氢钠和硫酸镁组成的组中的一种以上。本发明的银薄膜蚀刻液组合物具有不发生残渣以及银再吸附问题的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 蚀刻 组合 利用 方法 金属 图案 形成 | ||
【主权项】：
1.一种银薄膜蚀刻液组合物，其特征在于，相对于组合物总重量,包含：/n(A)硝酸7～15重量％；/n(B-1)碳原子数1～3的烷基磺酸3～8重量％；/n(B-2)烷基磺酸以外的有机酸25～65重量％；/n(C)有机酸的盐0.1～7重量％；/n(D)硫酸盐5～25重量％；及/n(E)水，/n所述(D)硫酸盐包含选自由硫酸氢钾、硫酸氢钠和硫酸镁组成的组中的一种以上。/n
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