[发明专利]薄膜厚度的测量方法及装置在审
申请号: | 201910561172.9 | 申请日: | 2019-06-26 |
公开(公告)号: | CN112146581A | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 李政 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;G01B15/02 |
代理公司: | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人: | 孙佳胤 |
地址: | 230001 安徽省合肥市蜀山*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明提供一种薄膜厚度的测量方法及装置,所述方法包括如下步骤:获得校准参数的步骤:采用第一测量方法测量参考样品的薄膜层的厚度,得到所述参考样品的薄膜层的第一厚度;采用第二测量方法测量所述参考样品的薄膜层的厚度,得到所述参考样品的薄膜层的第二厚度;将所述第一厚度与所述第二厚度进行比较,得到所述校准参数;获得待测样品的薄膜层的厚度步骤:采用所述第一测量方法测量待测样品的薄膜层的初始厚度,所述待测样品与所述参考样品为同类型样品;采用所述校准参数对所述初始厚度进行校准,得到该待测样品的薄膜层的厚度。其能够对超薄单层薄膜的厚度及多层薄膜层交叠设置的结构的薄膜层的厚度进行准确测量,提高测量精度。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 厚度 测量方法 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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