[发明专利]一种小尺寸沟槽的制备方法在审
| 申请号： | 201910563067.9 | 申请日： | 2019-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN112147848A | 公开（公告）日： | 2020-12-29 |
| 发明（设计）人： | 王金翠;苏建;任夫洋;陈康;吴萌萌 | 申请（专利权）人： | 山东华光光电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20;G03F7/40;H01L21/768;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京华际知识产权代理有限公司 11676 | 代理人： | 张文杰 |
| 地址： | 250101 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种小尺寸沟槽的制备方法，本技术方案首先在外延片上面旋涂一层厚的正性光刻胶，利用光刻掩膜版采用曝光、显影的方式制备出一定宽度的光刻胶窗口，然后在带有光刻胶的沉底上面直接旋涂一层薄的光刻胶，形成具有沟型弧度光刻胶掩膜层，沟型弧度底部的尺寸小于光刻胶显影图形的宽度，最后通过干法刻蚀将沟槽底部比较薄的光刻胶刻蚀掉，然后直接以光刻胶做掩膜继续进行刻蚀，得到尺寸≤5um的沟槽图形，实现更小尺寸沟槽的制备。本技术方案设计合理，操作简单，不仅有效实现了小尺寸沟槽的制备，避免了多次光刻，直接一次干法刻蚀就可以实现，同时使用成本低，简化了工艺步骤，实用性较好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 尺寸 沟槽 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东华光光电子股份有限公司，未经山东华光光电子股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910563067.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
