[发明专利]一种镨离子掺杂对铽镓石榴石磁光性能影响的分析方法有效
申请号: | 201910563556.4 | 申请日: | 2019-06-26 |
公开(公告)号: | CN110275293B | 公开(公告)日: | 2020-12-11 |
发明(设计)人: | 蔡伟;杨志勇;许友安;李敏;王振业 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军火箭军工程大学 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G06F17/10;G06F17/11;G02F1/09 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 燕肇琪 |
地址: | 710025 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: |
本发明涉及一种在铽镓石榴石(TGG)中掺杂镨(Pr |
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搜索关键词: | 一种 离子 掺杂 石榴石 性能 影响 分析 方法 | ||
【主权项】:
1.一种镨离子掺杂对铽镓石榴石磁光性能影响的分析方法,其特征在于:根据微扰理论解算久期方程,得到自旋‑轨道耦合、晶场、有效场及离子之间的超交换作用下,Tb3+、Pr3+离子的能级位移及波函数;并进一步解算出Tb3+、Pr3+离子自基态4f至5d的跃迁电偶极矩、各能级上的分布概率及平均磁矩;最后获得了Pr:TGG晶体的维尔德常数和磁化率,以及维尔德常数与Pr3+离子掺杂量之间的关系,主要步骤如下:步骤1:求解Tb3+、Pr3+离子的能级及波函数;步骤2:计算Pr:TGG的维尔德常数及与Pr3+离子掺杂量之间的关系;步骤3:求解Pr:TGG的磁化率。
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