[发明专利]形成发光装置的制造方法及其所制成的发光装置有效
| 申请号： | 201910572937.9 | 申请日： | 2012-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN110289346B | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 吴佳裕;苏庆章;曾俊龙;沈庆兴 | 申请（专利权）人： | 晶元光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/44 | 分类号： | H01L33/44 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种形成发光装置的制造方法及其所制成的发光装置。该制造方法包含：提供一基板；形成一发光结构于基板上，发光结构具有一活性层、一上表面以及一侧壁；形成一保护层于发光结构的该上表面及该侧壁上，保护层具有一第一厚度；蚀刻保护层使保护层具有一第二厚度小于第一厚度；以及图案化具有第二厚度的保护层以形成一电流障壁层。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 发光 装置 制造 方法 及其 制成 | ||
【主权项】：
1.一种形成发光装置的制造方法，包含:提供基板；形成发光结构于该基板上，该发光结构具有活性层、上表面以及侧壁；形成保护层于该发光结构的该上表面及该侧壁上，该保护层具有第一厚度；蚀刻该保护层使该保护层具有第二厚度小于该第一厚度；以及图案化该保护层以形成电流障壁层。
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