[发明专利]SRAM结构及其形成方法在审
| 申请号： | 201910573430.5 | 申请日： | 2019-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN110660803A | 公开（公告）日： | 2020-01-07 |
| 发明（设计）人： | 温明璋;徐国修;田峻宇;吴琬瑶;张长昀;陈弘凯;洪连嵘 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/11 | 分类号： | H01L27/11;H01L21/8244 |
| 代理公司： | 11409 北京德恒律治知识产权代理有限公司 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 提供了SRAM结构。SRAM结构包括：衬底；P型阱区，位于衬底上方；N型阱区，位于衬底上方；PMOS晶体管，位于N型阱区中；NMOS晶体管，位于P型阱区中；隔离区，位于P型阱区和N型阱区之间的边界上方；以及介电结构，形成在隔离区中并且从隔离区延伸到P型阱区和N型阱区之间的边界。介电结构的深度大于隔离区的深度。PMOS晶体管通过隔离区与NMOS晶体管分隔开。本发明的实施例还涉及SRAM结构的形成方法。 | ||
| 搜索关键词： | 隔离区 衬底 介电结构 分隔 延伸 | ||
【主权项】：
1.一种静态随机存取存储器(SRAM)结构，包括：/n衬底；/nP型阱区，位于所述衬底上方；/nN型阱区，位于所述衬底上方并且在结处邻接所述P型阱区；/nP型金属氧化物半导体晶体管，位于所述N型阱区中；/nN型金属氧化物半导体晶体管，位于所述P型阱区中；/n介电层，位于所述P型金属氧化物半导体晶体管和所述N型金属氧化物半导体晶体管上方；以及/n介电结构，位于所述结上方并且从所述结延伸至所述介电层的顶面；/n其中，所述P型金属氧化物半导体晶体管通过所述介电结构与所述N型金属氧化物半导体晶体管分隔开。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
