[发明专利]一种砷化镓集成电路制造黄光区自动化系统和装置有效
| 申请号： | 201910575710.X | 申请日： | 2019-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN110429047B | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 赵玉会;翁佩雪;郭文海;邓丹丹;林锦伟;林伟铭 | 申请（专利权）人： | 福建省福联集成电路有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/677;G03F7/20 |
| 代理公司： | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 | 代理人： | 魏小霞;徐剑兵 |
| 地址： | 351117 福建省莆*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明涉及砷化镓集成电路技术领域，特别涉及一种砷化镓集成电路制造黄光区自动化系统和装置。所述一种砷化镓集成电路制造黄光区自动化系统，包括：参数控制单元、涂胶单元、曝光单元、显影单元、检测单元和晶舟传送单元；参数控制单元分别连接所述涂胶单元、曝光单元、显影单元、检测单元和晶舟传送单元；所述参数控制单元用于：获取不同单元的参数值，并根据不同的参数值对不同的单元发出不同的指令；所述晶舟传送单元用于：将晶片从一个单元传送至另一个单元。整个作业过程自动化，无需人工参与，不仅节约步骤，提高效率，同时也避免了一些人为操作上造成的错误。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 砷化镓 集成电路 制造 黄光区 自动化 系统 装置 | ||
【主权项】：
1.一种砷化镓集成电路制造黄光区自动化系统，其特征在于，包括：参数控制单元、涂胶单元、曝光单元、显影单元、检测单元和晶舟传送单元；所述参数控制单元分别连接所述涂胶单元、曝光单元、显影单元、检测单元和晶舟传送单元；所述参数控制单元用于：获取不同单元的参数值，并根据不同的参数值对不同的单元发出不同的指令；所述涂胶单元用于：给晶片的表面均匀的涂上一层感光物质光阻；所述曝光单元用于：对涂完感光物质光阻后的晶片进行曝光；所述显影单元用于：对曝光后的晶片进行显影；所述检测单元用于：检测曝光后的晶片是否符合预设要求；所述晶舟传送单元用于：将晶片从一个单元传送至另一个单元。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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