[发明专利]一种氧化物膜层的制备方法在审
| 申请号： | 201910576035.2 | 申请日： | 2019-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN110172669A | 公开（公告）日： | 2019-08-27 |
| 发明（设计）人： | 吴德生;李志成 | 申请（专利权）人： | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/10;C23C14/35;C23C14/58 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 廖苑滨 |
| 地址： | 516600 广东省汕*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种氧化物膜层的制备方法，具体步骤为；接通靶材电源，打开靶材挡板，向靶材与基板之间通入少量氧气，氧气离化为氧原子，将靶材原子溅射向基板上，以使靶材原子与离化的氧原子结合生成氧化物，从而在基板上形成氧化物膜层；关闭靶材电源，关闭靶材挡板，打开阳极层等离子电源，向离子源与基板之间通入氧气，氧气离化为氧离子，在阳极层等离子处出射，打到氧化物膜层基板上，以填充氧化物分子间的空隙；通过采用以上技术方案方法，大大提升氧化硅膜的致密性，提高氧化硅膜的可靠性，延长氧化硅膜的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 靶材 基板 氧化物膜层 氧气 氧化硅膜 挡板 靶材原子 阳极层 氧原子 制备 电源 等离子电源 填充氧化物 使用寿命 等离子 离子源 氧离子 致密性 氧化物 出射 溅射 离化 接通 | ||
【主权项】：
1.一种氧化物膜层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：接通靶材电源，打开靶材挡板，向靶材与基板之间通入少量氧气，氧气离化为氧原子，将靶材原子溅射向基板上，以使靶材原子与离化的氧原子结合生成氧化物，从而在基板上形成氧化物膜层；S2：关闭靶材电源，关闭靶材挡板，打开阳极层等离子电源，向离子源与基板之间通入氧气，氧气离化为氧离子，在阳极层等离子处出射，打到氧化物膜层基板上，以填充氧化物分子间的空隙。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信利光电股份有限公司，未经信利光电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910576035.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
