[发明专利]一种曝光装置、光刻设备及曝光方法有效
| 申请号： | 201910578477.0 | 申请日： | 2019-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN112147849B | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 周畅;朱岳彬;李莉;杨玉杰;彭水平;葛黎黎;沈逸豪 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种曝光装置、光刻设备及曝光方法，曝光装置包括曝光单元、至少一个物料承载运动单元、与所述至少一个物料承载运动单元一一对应的至少一个物料传送单元、第一定位检测单元、第二定位检测单元、位姿调整单元。物料承载运动单元可在物料传送单元的等待工位和曝光单元的曝光工位之间移动，第一定位检测单元，用于在所述物料承载运动单元位于所述等待工位时，检测物料的位姿；第二定位检测单元，用于在所述物料承载运动单元位于所述曝光工位时，检测或校验物料的位姿；位姿调整单元，用于根据所述第一定位检测单元或所述第二定位检测单元的检测结果，调整物料的位置和姿态。本发明实施例能够提高曝光装置的曝光精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 装置 光刻 设备 方法 | ||
【主权项】：
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