[发明专利]光刻设备及光刻设备的瞳面透过率的检测方法有效
| 申请号： | 201910579085.6 | 申请日： | 2019-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN112147851B | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 田毅强;孙文凤 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/26 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻设备以及光刻设备的瞳面透过率的检测方法。根据具有子光束能量常数的相位掩模版，获取对应的子光束入射能量或者获取子光束的入射能量比值，并且在光刻设备中还集成有检测装置，以利用检测装置可以实现在线获取子光束的出射能量，进而可以得到瞳面透过率的检测结果。即，本发明中的光刻设备集成有瞳面透过率检测功能，从而可以在线执行检测过程，不仅其检测方式便利，并且可有效缩减检测时长。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 透过 检测 方法 | ||
【主权项】：
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