[发明专利]制造遮罩的方法在审
| 申请号： | 201910580323.5 | 申请日： | 2019-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN110727171A | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 黄旭霆;刘如淦;游信胜 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/72 | 分类号： | G03F1/72;G03F1/76;G03F1/36;H01L21/033 |
| 代理公司： | 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本案是关于一种制造遮罩的方法，包含对一光学系统计算一透射交叉系数矩阵以执行一微影制程、透过基于模拟晶圆图案和经测量的印刷晶圆图案之间的一比较迭代地调整一微影模型来校正该微影模型，以及提供该经校正的微影模型至一遮罩布置合成工具，以取得相应于一目标遮罩布置的一经合成遮罩布置，为着使用该经合成遮罩布置制造该遮罩，该经校正的微影模型包含该理想透射交叉系数核集、该至少二扰动核集以及一抗蚀模型。 | ||
| 搜索关键词： | 遮罩 微影 校正 晶圆图案 透射 合成 光学系统 合成工具 微影制程 系数矩阵 扰动 迭代 一抗 制造 测量 印刷 | ||
【主权项】：
1.一种制造遮罩的方法，其特征在于，包含：/n对一光学系统计算一透射交叉系数矩阵以执行一微影制程，其中计算包含分解该透射交叉系数矩阵成用于一相应理想光学系统的一理想透射交叉系数核集以及具有相应于该光学系统中光学缺陷的系数的至少一扰动核集；/n透过基于模拟晶圆图案和经测量的印刷晶圆图案之间的一比较迭代地调整一微影模型来校正该微影模型；以及/n提供该经校正的微影模型至一遮罩布置合成工具，以取得相应于一目标遮罩布置的一经合成遮罩布置，为着使用该经合成遮罩布置制造一遮罩，该经校正的微影模型包含该理想透射交叉系数核集、该至少二扰动核集以及一光阻模型。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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