[发明专利]晶片定位装置及晶片加工系统有效
| 申请号： | 201910588370.4 | 申请日： | 2019-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN110265342B | 公开（公告）日： | 2021-07-02 |
| 发明（设计）人： | 武震;张乾;高爱梅;黄卫国;宋婉贞;张永昌 | 申请（专利权）人： | 北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所） |
| 主分类号： | H01L21/68 | 分类号： | H01L21/68;H01L21/677 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 毕翔宇 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种晶片定位装置及晶片加工系统，包括：料盒，安装在工作台上用以容纳晶片，所述料盒的两侧部的至少部分形成有缺口部，所述晶片的外缘的至少部分通过所述缺口部暴露并向外超出所述缺口部；第一夹持件和第二夹持件，分别安装在所述工作台上，所述第一夹持件和所述第二夹持件能够相互靠近地移动到预设位置，以对所述晶片进行定位，所述第一夹持件相对于所述晶片的移动速度与所述第二夹持件相对于所述晶片的移动速度不同。本申请采用靠近晶片速度不同的夹持件对晶片进行定位，定位灵活准确的同时又能降低碎片率。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 定位 装置 加工 系统 | ||
【主权项】：
1.一种晶片定位装置，其特征在于，包括：料盒，安装在工作台上用以容纳晶片，所述料盒的两侧部的至少部分形成有缺口部，所述晶片的外缘的至少部分通过所述缺口部暴露并向外超出所述缺口部；第一夹持件和第二夹持件，分别安装在所述工作台上，所述第一夹持件和所述第二夹持件能够相互靠近地移动到预设位置，以对所述晶片进行定位，所述第一夹持件相对于所述晶片的移动速度与所述第二夹持件相对于所述晶片的移动速度不同。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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