[发明专利]一种基于直写式光刻机拼板模式下内层防呆的方法有效

专利信息
申请号: 201910590633.5 申请日: 2019-06-20
公开(公告)号: CN110286566B 公开(公告)日: 2021-08-13
发明(设计)人: 赵美云 申请(专利权)人: 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 代理人: 苗娟;奚华保
地址: 230088 安徽省合肥市高新区*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 一种基于直写式光刻机拼板模式下内层防呆的方法,可解决直写式光刻机拼板模式采用多片板子拼板曝光时,现有的翻版方式对位精度较低的技术问题。包括以下步骤:S100、设置两种形状不同的标识Mark,对位Mark‑A和序列号Mark‑B;S200、根据台面所能容纳光刻机拼板的最大数量N,确定Mark‑B的数量M;S300、设置Mark‑B的编码,将M个Mark B排列成不对称的形状;S400、使用CCD对Mark‑A和Mark‑B进行图像采集;S500、对于CCD采集到的一组Mark‑B,计算得到光刻机拼板对应的编号I并判断是左右翻板还是上下翻板;S600、对于CCD采集到的Mark‑A,确定镜像和形变;S700、根据识别到的对相应编号的光刻拼板图形进行矫正处理。本发明可以准确的对拼板图形进行变换和补偿,具备了防呆功能,同时提升了对位精度。
搜索关键词: 一种 基于 直写式 光刻 拼板 模式 内层 方法
【主权项】:
1.一种基于直写式光刻机拼板模式下内层防呆的方法,其特征在于:在承载光刻机拼板的精密运动平台的台面上,设置卡槽;包括以下步骤:S100、设置两种形状不同的标识Mark,Mark‑A和Mark‑B;其中Mark‑A为对位Mark,Mark‑A设置在光刻机拼板板面的相邻两边,Mark‑B为板卡序列号Mark,Mark‑B设置在光刻机拼板板面的一边,所述Mark‑A和Mark‑B均设置在光刻机精密运动平台的台面卡槽里;S200、根据台面所能容纳光刻机拼板的最大数量N,确定Mark‑B的数量M;S300、设置Mark‑B的编码,将M个Mark B排列成不对称的形状;S400、使用CCD对Mark‑A和Mark‑B进行图像采集;S500、对于CCD采集到的一组Mark‑B,一方面根据所设定的这一组Mark‑B点的对应的编码规则,计算得到光刻机拼板对应的编号I;另一方面根据设定的不对称形状,判断是左右翻板还是上下翻板;S600、对于CCD采集到的Mark‑A,结合步骤500的翻板情况,确定镜像和形变;S700、根据步骤S500识别到的光刻机拼板对应编号I,对相应编号的光刻拼板图形进行矫正处理。
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