[发明专利]一种电响应聚合物膜及其制备方法、使用方法和用途有效
申请号: | 201910598326.1 | 申请日: | 2019-07-04 |
公开(公告)号: | CN110237713B | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | 胡承志;谭笑;曲久辉;孙境求;赵凯;马百文;戚菁 | 申请(专利权)人: | 中国科学院生态环境研究中心 |
主分类号: | B01D61/14 | 分类号: | B01D61/14;B01D65/02;B01D67/00;B01D71/16;B01D71/34;B01D71/56;B01D71/68;C02F1/44;C02F101/30 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋 |
地址: | 100085*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种电响应聚合物膜及其制备方法、使用方法和用途,所述电响应聚合物膜包括多孔聚合物膜基体,以及覆盖在所述多孔聚合物膜基体的孔壁和表面的聚吡咯膜,所述聚吡咯膜中掺杂有大体积阴离子;所述大体积阴离子包括烷基苯磺酸根离子、烷基磺酸根离子、烷基硫酸根离子和二丁酸二辛酯磺酸根离子中的任意一种或至少两种组合;所述烷基为C7‑C12的烷基。所述电响应聚合物膜具有膜孔伸缩的功能,可实现膜污染物的清除和有机污染物的选择性截留,且具有良好的机械性能和稳定性。 | ||
搜索关键词: | 一种 响应 聚合物 及其 制备 方法 使用方法 用途 | ||
【主权项】:
1.一种电响应聚合物膜,其特征在于,所述电响应聚合物膜包括多孔聚合物膜基体,以及覆盖在所述多孔聚合物膜基体的孔壁和表面的聚吡咯膜,所述聚吡咯膜中掺杂有大体积阴离子;所述大体积阴离子包括烷基苯磺酸根离子、烷基磺酸根离子、烷基硫酸根离子和二丁酸二辛酯磺酸根离子中的任意一种或至少两种组合;所述烷基为C7‑C12的烷基。
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