[发明专利]等离子体处理设备的射频电极组件和等离子体处理设备有效
| 申请号： | 201910598506.X | 申请日： | 2019-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN112185787B | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | 苏宜龙;左涛涛;陈妙娟 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 包姝晴;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种用于等离子体处理设备的射频电极组件和等离子体处理装置，其中，用于等离子体处理设备的射频电极组件包括：基座，所述基座内设置有第一流体通道，所述第一流体通道连接第一流体源；位于所述基座上的静电夹盘，所述静电夹盘上用于放置待处理基片；位于所述静电夹盘外围的聚焦环，在所述聚焦环内具有至少一空腔，每个空腔内设置至少一个温控器件设置在所述空腔中，以控制所述聚焦环的温度。所述等离子体处理设备能够对待处理基片边缘区域聚合物的分布进行分区域局部地调节。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 设备 射频 电极 组件 | ||
【主权项】：
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