[发明专利]一种等离子处理装置及其方法有效
| 申请号： | 201910601516.4 | 申请日： | 2019-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN112185788B | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | 黄允文 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;章丽娟 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子处理装置及其方法，所述等离子处理装置包含：一真空反应腔，所述真空反应腔的下方还设置一真空泵，用于将反应副产物排出所述真空反应腔，所述等离子处理装置包含：多个安装紧固件，其用于将所述真空泵固定在所述真空反应腔腔体上；至少一个缓冲装置，通过所述安装紧固件固定在所述真空泵和所述真空反应腔的腔体之间，所述缓冲装置设有形变空间，所述缓冲装置通过所述形变空间产生位移变形以吸收所述真空泵的部分动能。其优点是：在等离子处理装置突然发生故障时，缓冲装置可吸收较多的真空泵动能，使真空反应腔腔体接收的真空泵残余动能大大减小，有效地保护了真空反应腔腔体，减小了安全事故发生的可能性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 处理 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
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