[发明专利]带遮挡的溅射沉积装置及方法在审
| 申请号： | 201910606616.6 | 申请日： | 2019-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN110684945A | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 蒂莫西·内格尔;托马斯·黑克尔 | 申请（专利权）人： | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/34;C23C14/08;C23C14/56 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种带遮挡的溅射沉积系统和方法，该系统包括一个工艺模块，该工艺模块包括一个配置为接收一个移动衬底的真空外壳，设置在该真空外壳中的多个溅射靶，每个溅射靶包括一种靶材，以及一个设置在该衬底和相邻溅射靶的间隙空间之间的外部遮蔽件。该外部遮蔽件可以构造为至少部分地阻挡溅射靶材间接沉积在该衬底上，并允许溅射靶材直接沉积在该衬底上。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 溅射靶 工艺模块 溅射靶材 真空外壳 遮蔽件 溅射沉积系统 间隙空间 直接沉积 外部 靶材 沉积 遮挡 阻挡 移动 配置 | ||
【主权项】：
1.一种溅射沉积系统，包括一个工艺模块，所述工艺模块包括：/n一个真空外壳，配置为接收一个移动衬底；/n多个溅射靶，设置在所述真空外壳中，每个所述溅射靶包括一种靶材；以及/n一个外部遮蔽件，设置在所述衬底和相邻溅射靶的间隙空间之间，所述外部遮蔽件构造为至少部分地阻挡溅射靶材间接沉积在所述衬底上，并且允许所述溅射靶材直接沉积在所述衬底上。/n
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