[发明专利]基于CsPbBr3有效

专利信息
申请号: 201910608570.1 申请日: 2019-07-05
公开(公告)号: CN110243889B 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 毛乐宝;张修华;文为;何汉平;王升富 申请(专利权)人: 湖北大学
主分类号: G01N27/26 分类号: G01N27/26;G01N27/36;G01N27/327;G01N27/30
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 代理人: 杨采良
地址: 430062 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于钙钛矿量子点(CsPbBr3)和氧化石墨烯(GO)同型异质结构的分子印迹传感器的制备及其用于黄曲霉毒素B1(AFB1)的检测。本发明以CsPbBr3包裹或负载在氧化石墨烯的褶皱里面构建同型异质结构,聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)作为疏水层,并结合分子印迹技术,成功制备了分子印迹光电化学传感器。本发明制备的传感器以CsPbBr3和GO形成的同型异质结作为光电转换层,聚甲基丙烯酸甲酯作为保护层,并通过表面修饰含有毒素识别位点的分子印迹膜来实现AFB1的检测。该传感器具有检测范围宽,选择性好,灵敏度高,检测限高达0.74pg·mL‑1;同时响应稳定,具有良好的重现性。
搜索关键词: 基于 cspbbr base sub
【主权项】:
1.一种基于CsPbBr3/GO同型异质结构的分子印迹光电化学传感器,其特征在于:所述传感器由下至上包括依次层叠的工作电极、CsPbBr3/GO同型异质结构层、疏水层和分子印迹聚合物膜层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖北大学,未经湖北大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910608570.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top