[发明专利]半导体器件在审

专利信息
申请号: 201910609180.6 申请日: 2019-07-08
公开(公告)号: CN110943080A 公开(公告)日: 2020-03-31
发明(设计)人: 金煐勋;梁在锡;李海王 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L29/78
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张波
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种半导体器件包括:有源区域,在衬底上沿第一方向延伸;掩埋导电层,在衬底上与有源区域相邻设置并沿第一方向延伸;栅电极,交叉有源区域并沿交叉第一方向的第二方向延伸;源/漏层,在栅电极的一侧设置在有源区域上;栅隔离图案,设置在掩埋导电层上以与栅电极的一端相邻设置,并沿第一方向延伸;以及接触插塞,设置在源/漏层上、电连接到掩埋导电层并与栅隔离图案接触。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
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