[发明专利]背光模组及其制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 201910614835.9 | 申请日： | 2019-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN110161620B | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 谭伟;董水浪;谭纪风;孟宪东 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/00 | 分类号： | G02B6/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 黄灿;张博 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种背光模组及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，背光模组的制作方法包括：在导光板的出光面形成取光光栅材料层；通过纳米压印工艺在所述取光光栅材料层上形成压印胶图形；在待形成取光光栅的区域形成覆盖所述压印胶图形的光刻胶图形；去除未被所述光刻胶图形覆盖的压印胶图形；去除所述光刻胶图形，以残留的压印胶图形为掩膜对所述取光光栅材料层进行刻蚀，形成取光光栅。本发明的技术方案能够改善显示装置的对比度。 | ||
| 搜索关键词： | 背光 模组 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种背光模组的制作方法，其特征在于，包括：在导光板的出光面形成取光光栅材料层；通过纳米压印工艺在所述取光光栅材料层上形成压印胶图形；在待形成取光光栅的区域形成覆盖所述压印胶图形的光刻胶图形；去除未被所述光刻胶图形覆盖的压印胶图形；去除所述光刻胶图形，以残留的压印胶图形为掩膜对所述取光光栅材料层进行刻蚀，形成取光光栅。
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