[发明专利]一种铱金属配合物及其制备方法和应用在审
申请号: | 201910619238.5 | 申请日: | 2019-07-10 |
公开(公告)号: | CN110330531A | 公开(公告)日: | 2019-10-15 |
发明(设计)人: | 王辉;李建行;王猛;郎兴旺;李明;李泉池;马晓宇 | 申请(专利权)人: | 吉林奥来德光电材料股份有限公司 |
主分类号: | C07F15/00 | 分类号: | C07F15/00;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54 |
代理公司: | 长春众邦菁华知识产权代理有限公司 22214 | 代理人: | 周蕾 |
地址: | 130012 吉林*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: |
本发明涉及一种铱金属配合物及其制备方法和应用,所述铱金属配合物结构如化学式1所示: |
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搜索关键词: | 铱金属配合物 非取代 制备方法和应用 制备 有机电致发光器件 有机金属化合物 烷基 调节化合物 芳族杂环基 含氧化合物 产物纯度 发光效率 配体结合 取代位置 使用寿命 稠环基 波长 芳基 氰基 杂环 | ||
【主权项】:
1.一种铱金属配合物,其特征在于,其结构如化学式1所示:
化学式1中:R1、R2、R3和R4各自独立地选自氢、氘、卤素、氰基、取代或非取代的C1‑C6烷基、取代或非取代的C6‑C18芳基、取代或非取代的C4‑C12芳族杂环基、或取代或非取代的C8~C16的稠环基;R1、R2、R3和R4各自的取代位置为所在环的任意位置;R1和R2取代基的数量均为0~4,R3取代基的数量为0~2,R4取代基的数量为0~3;Rn为含氧化合物,其取代位置为所在杂芳环的任意位置,Rn取代基数量为0~4;Rn结构可由化学式2表示:
化学式2中:R5和R6各自独立地选自氢、氘、卤素、氰基、取代或非取代的C1‑C6烷基、取代或非取代的C6‑C12芳基、取代或非取代的C4‑C10芳族杂环基、或取代或非取代的C8~C16的稠环基;R7选自氢、氘、取代或非取代的C1‑C6烷基、取代或非取代的C6‑C12芳基、取代或非取代的C4‑C10芳族杂环基、或取代或非取代的C8~C16的稠环基;X代表连接位置。
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