[发明专利]化学气相沉积优化腔室在审
| 申请号： | 201910619953.9 | 申请日： | 2019-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN110241401A | 公开（公告）日： | 2019-09-17 |
| 发明（设计）人： | 王一喆;岳振明;宫建红;李玉森;高建东;高军 | 申请（专利权）人： | 山东大学 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/455 |
| 代理公司： | 青岛清泰联信知识产权代理有限公司 37256 | 代理人： | 陈宇瑄 |
| 地址： | 264209 *** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学气相沉积优化腔室。所述化学气相沉积优化腔室包括：沉积腔壁，所述沉积腔壁设有保温层，所述保温层保证沉积腔室内的温度均匀性；石墨基座，所述石墨基座用于传热以及放置衬底；喷淋头，所述喷淋头用于输运原料气体，使膜层沉积均匀；电阻加热器，所述电阻加热器用于加热石墨托盘，为沉积提供能量；中心旋转轴，所述中心旋转轴固定在石墨圆基座轴心。本发明解决了大炉体沉积膜层不均匀的问题，通过电阻加热器对石墨托盘加热，使每片衬底均匀受热。并且本发明在反应腔室设置喷淋头，能够改善原料气体在衬底上方的输运均匀度。 | ||
| 搜索关键词： | 化学气相沉积 电阻加热器 沉积腔 喷淋头 衬底 腔室 中心旋转轴 石墨基座 原料气体 保温层 输运 优化 温度均匀性 传热 托盘 沉积膜层 反应腔室 基座轴心 加热石墨 均匀受热 膜层沉积 石墨托盘 石墨 不均匀 大炉体 均匀度 沉积 加热 室内 保证 | ||
【主权项】：
1.一种化学气相沉积优化腔室，其特征在于，包括：旋转轴以及电阻加热器；沉积腔壁，所述沉积腔壁设有保温层，所述保温层围成沉积腔室；石墨基座，所述基座用于放置衬底；喷淋头，设置在基座上方与其平行。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
