[发明专利]一种基于磁流变加工的连续型螺旋相位板制备方法有效
| 申请号： | 201910621157.9 | 申请日： | 2019-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN110394693B | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 唐才学;温圣林;张远航;颜浩;嵇保建;石琦凯;邓燕;王健;张清华;李昂 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 | 代理人： | 李冉 |
| 地址： | 621900*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于磁流变加工的连续型螺旋相位板制备方法，基于梯度匹配方法选择磁流变去除函数，并利用磁流变加工技术去除函数尺寸小、修形能力强、加工确定性高的特点，直接在基本光学元件表面加工出螺旋相位板的设计图案，该方法具有工艺简单、加工精度高、成形效率高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 流变 加工 连续 螺旋 相位 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于磁流变加工的连续型螺旋相位板制备方法，其特征在于，包括：S1：获取螺旋相位板的设计面形数据，其中设计面形长度为m，设计面形宽度为n，单位为mm；S2：选择基板，其中基板长度不小于m，宽度不小于n；并测量基板面形数据；判断基板面形数据是否满足PV≤1λ；若满足，则执行步骤S3；其中，PV表示面形数据中最大值和最小值的差值；S3：对螺旋相位板的设计面形数据和基板面形数据进行误差匹配，得到残余误差面形数据；S4：判断残余误差面形数据的均方根是否小于预设阈值；若否，则基于梯度匹配方法选择磁流变去除函数；S5：在确定了磁流变去除函数和残余误差面形数据后，计算驻留时间，并对应生成磁流变机床的数控程序；S6：基于选取的基板和生成的磁流变机床的数控程序进行磁流变加工，得到螺旋相位板元件；S7：测量螺旋相位板元件面形数据，并与所述设计面形数据进行误差匹配，得到新的残余误差面形数据，并重复执行步骤S4～S7，直至残余误差面形数据的均方根小于预设阈值，螺旋相位板制备完成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心，未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910621157.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
