[发明专利]一种基于平面光波导的可饱和吸收体及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910622034.7 申请日: 2019-07-10
公开(公告)号: CN110350389A 公开(公告)日: 2019-10-18
发明(设计)人: 张多多;刘小峰;邱建荣 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01S3/098 分类号: H01S3/098;H01S5/065
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 林超
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于平面光波导的可饱和吸收体及其制备方法。可饱和吸收体由平面光波导和覆盖于其上的金属氧化物薄膜组成,平面光波导包括PLC芯片和光纤V型槽,金属氧化物包括ITO、FTO、AZO、IZO、GZO、IGZO,以及Ti,V,Mo,W等过渡金属的氧化物,该可饱和吸收体因所用材料的不同,工作波段可以覆盖可见到近红外波段。本发明提供了一种全新的用于各类脉冲激光器的可饱和吸收体及制备方法,具有制备方法简单、成本低、激光损伤阈值高等特点,可用广泛用于固体激光器,光纤激光器以及半导体激光器等各类激光器,用以产生最短可达百飞秒的激光脉冲。
搜索关键词: 可饱和吸收体 平面光波导 制备 金属氧化物薄膜 半导体激光器 固体激光器 光纤激光器 金属氧化物 近红外波段 脉冲激光器 光纤V型槽 工作波段 过渡金属 激光脉冲 激光损伤 激光器 氧化物 覆盖 可用
【主权项】:
1.一种基于平面光波导的可饱和吸收体,其特征在于:可饱和吸收体包括平面光波导和覆盖于平面光波导表面的金属氧化物,平面光波导主要由以石英玻璃作为衬底的PLC芯片和光纤V型槽组成,PLC芯片内刻蚀有用于光传输的波导光路,PLC芯片两侧耦合有光纤V型槽,PLC芯片表面刻蚀有用于沉积金属氧化物的凹槽。
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