[发明专利]GaSe/MoS2在审

专利信息
申请号: 201910624743.9 申请日: 2019-07-11
公开(公告)号: CN112216751A 公开(公告)日: 2021-01-12
发明(设计)人: 何鹏;张墅野;胡平安;林铁松;张彦鑫 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: H01L31/0336 分类号: H01L31/0336;H01L31/072;H01L31/109;H01L31/18;C23C16/30
代理公司: 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 代理人: 张金珠
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 发明公开了GaSe/MoS2异质结的制备方法,属于光电器件的技术领域。本发明要解决现有制备GaSe/MoS2异质结存在MoS2纳米片形状不规则而且层数不可控、难以精确控制的技术问题。本发明采用化学气相沉积法得到单层MoS2,然后采用PDMS作为转移的媒介利用转移平台将机械剥离的GaSe与MoS2结合获得GaSe/MoS2异质结。本发明制备的GaSe/MoS2异质结是具有很好的光电性能,是许多光电器件的核心组件,比如紫外光电探测器等。
搜索关键词: gase mos base sub
【主权项】:
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