[发明专利]微机电系统装置及其形成方法在审
| 申请号： | 201910629444.4 | 申请日： | 2019-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN111762753A | 公开（公告）日： | 2020-10-13 |
| 发明（设计）人： | 王怡人;林宏桦;谢元智 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B81B7/02 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 薛恒;王琳 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本公开实施例涉及一种微机电系统装置及其形成方法，所述方法包括在第一压电层之上沉积第一电极层。接着在第一电极层之上沉积硬掩模层。在硬掩模层上形成具有第一电极图案的光刻胶掩模。使用光刻胶掩模向硬掩模层中进行第一刻蚀，以将第一电极图案转移到硬掩模层。接着移除光刻胶掩模。使用硬掩模层进行第二刻蚀，以将第一电极图案转移到第一电极层，以及移除硬掩模层。 | ||
| 搜索关键词： | 微机 系统 装置 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
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