[发明专利]一种基于模型的OPC修正方法

摘要

本发明公开了一种基于模型的OPC修正方法，利用粒子群算法去优化求解一个局部区域内所有线段的最佳法向修正值，包括以下具体步骤：步骤1：半导体电路设计原始数据；步骤2：多边形依据边分段；步骤3：取出一个多边形相邻的线段；步骤4：计算各个线段的目标光强点；步骤5：随机初始化每个线段法向位移值作为一个解；步骤6：进行迭代；步骤7：得出判定值；步骤8：如果结果满意，结束迭代，否则，继续进行迭代。通过上述方式，本发明改变局部点的计算模型和多个点进行修正，在同样环境建立的光学模型下，能和国外主流软件修正结果基本一致，误差在2nm以内，达到了精度高和快速高效的效果。

主权项

1.一种基于模型的OPC修正方法，其特征在于，使用OPC修正软件，包括以下具体步骤：/n步骤1：读取光刻掩模gds文件，得到文件中所有polygon图形及其位置关系，对polygon图形进行唯一性识别编号；/n步骤2：然后对每一个polygon图形进行分段，分成一个一个的线段，并对这些线段进行其所属polygon内的唯一性识别编号，此分段步骤有多种分段规则；/n步骤3：确定每个线段的光强计算位置，即target点，此target点为线段的中心位置，同时用户根据实际情况修改，比如将其左移或右移一定的距离；/n步骤4：根据光刻模型计算target点的光强值，然后将此线段往其法线方向向外移动一定的距离，并计算新位置的target点光强值，根据模型规则确定移动的方向是否正确，并往对的方向继续移动线段和计算光强值，直到所移动位置的光强值与模型要求光强值的误差在小于用户输入的允许误差时，此位置即为此次循环图形线段的新位置；/n步骤5：进入下一段线段图形的新位置确定，直到完成所有线段的此次循环的新位置确定；/n步骤6：确定完所有线段图形的新位置后，因图形及其周围图形有变动，会带来新的光强值和新的最优位置，所以开始新的线段位置确定的循环，此循环次数为4次，用户可根据实际情况修改此次数；/n步骤7：经过一定次数的循环后，得到最终的修正后的光掩模图形。/n