[发明专利]一种光刻设备的对准方法及装置在审
| 申请号： | 201910633613.1 | 申请日： | 2019-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN112230521A | 公开（公告）日： | 2021-01-15 |
| 发明（设计）人： | 徐占辉;张晓辉;刘景华;霍荣标;江彪;区俊杰;尹建刚;高云峰 | 申请（专利权）人： | 大族激光科技产业集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市世联合知识产权代理有限公司 44385 | 代理人： | 王锴 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明一种光刻设备的对准方法及装置涉及半导体制造装备技术，主要解决现有方法中需要投影镜头校正色差的问题。一种光刻设备的对准方法步骤如下：令紫外光束由上至下依次穿过掩模板的对位孔、投影镜头和晶圆载台的校准孔；使校准孔与对位孔中心对正，计算曝光零位；移动晶圆载台并记录晶圆载台第一移动量，使得校准孔与旁轴CCD同轴对准后，通过晶圆载台第一移动量标定旁轴CCD与实际曝光区域的位置；移动晶圆载台并记录晶圆载台第二移动量，直至旁轴CCD能够识别晶圆上的标记，通过旁轴CCD与实际曝光区域的位置和晶圆载台第二移动量计算得到晶圆位于晶圆载台上的相对位置；根据相对位置，将晶圆上的曝光区域移动到曝光零位。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 设备 对准 方法 装置 | ||
【主权项】：
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