[发明专利]一种掺钒双层氧化镍电致变色薄膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种掺钒双层氧化镍电致变色薄膜的制备方法，通过控制钒靶与镍靶的溅射功率比即可对掺入的钒原子的比例进行有效控制。薄膜下层所沉积的NiO属于结晶状态，其晶格排布紧密，有序度良好，在循环过程中不易降解，这就保证了该结构薄膜在循环过程中的稳定性。综上，利用晶态薄膜与掺杂薄膜之间的协同效应可使氧化镍薄膜的电致变色性能显著提高。此方法操作简便，易于推广，对推进NiO电致变色薄膜的商业化推广起到了十分积极的意义。

主权项

1.一种掺钒双层氧化镍电致变色薄膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：（1）将覆盖有ITO的玻璃基片分别于三氯乙烯、丙酮、乙醇中超声清洗5‑10min，除去表面覆盖的灰尘及油脂，之后使用去离子水对基片进行清洗，除去上面残留的乙醇，最后使用氮气吹干，得到洁净的ITO基片；（2）采用射频反应共溅射方法制备晶态氧化镍薄膜，使用的靶材为纯度为99.99%的金属镍；使用上步得到的洁净的ITO基片作为衬底；首先对真空室进行抽真空，当腔室内的压强达到4×10^‑4Pa以下时打开加热器对衬底进行加热，当温度达到设定温度时开始对腔室内充气；设定温度为100℃～450℃，所充入气体为O₂与Ar的混合气，O₂在混合气体中的比例为1%～90%，生长过程中保持腔室内的压强恒定，压强为0.1Pa～5Pa；镍靶溅射功率为10W~200W，溅射生长时间为1min～100min；（3）采用射频反应共溅射方法制备掺钒NiO薄膜，使用的靶材为纯度为99.99%的金属镍与纯度为99.9%的金属钒；使用上步得到的NiO/ITO作为衬底；接下来对真空室抽真空，当腔室内的压强达到4×10^‑4Pa以下时打开加热器对衬底进行加热，当温度达到设定温度时开始对腔室内充气；设定温度为100℃～450℃，所充入气体为O₂与Ar的混合气，O₂在混合气体中的比例为1%～90%，生长过程中保持腔室内的压强恒定，压强为0.1Pa～5Pa；镍靶溅射功率为10W~200W，钒靶溅射功率为10W~200W；生长时间为1min～100min。