[发明专利]利用超快激光双光子聚合制作衍射光学器件的方法在审
申请号: | 201910635314.1 | 申请日: | 2019-07-15 |
公开(公告)号: | CN110244509A | 公开(公告)日: | 2019-09-17 |
发明(设计)人: | 赵晓杰;陶沙;秦国双 | 申请(专利权)人: | 英诺激光科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G03F7/16;G03F7/42;G02B27/42 |
代理公司: | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人: | 王海滨 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区科技*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种利用超快激光双光子聚合制作衍射光学器件的方法,包括,将光刻胶涂覆在透明的晶圆材料表面;使用超快激光在光刻胶表面或内部产生双光子吸收、聚合、固化,形成固化图案;使用有机溶剂将未固化的光刻胶洗去;通过化学或等离子体刻蚀的方式,在晶圆材料表面进行刻蚀,以将没有固化光刻胶覆盖的晶圆材料表面刻蚀;将残余的固化光刻胶洗去,得到衍射光学器件;对衍射光学器件进行分切,得到单个衍射光学器件。本发明制作的衍射光学器件的分辨率在几纳米至几百纳米之间,适用不同的精度要求,相对于常规的激光加工方式,具有高度的空间选择性;同时该方法适用于各种不同的晶圆材料的加工。 | ||
搜索关键词: | 衍射光学器件 晶圆材料 超快激光 聚合 固化光 光刻胶 双光子 固化 制作 等离子体刻蚀 激光加工方式 光刻胶表面 空间选择性 双光子吸收 表面刻蚀 精度要求 有机溶剂 残余的 常规的 透明的 未固化 分辨率 分切 刻蚀 涂覆 图案 覆盖 加工 | ||
【主权项】:
1.一种利用超快激光双光子聚合制作衍射光学器件的方法,其特征在于:包括,步骤一、将光刻胶涂覆在透明的晶圆材料表面;步骤二、使用超快激光在光刻胶表面或内部产生双光子吸收、聚合、固化,形成固化图案;步骤三、使用有机溶剂将未固化的光刻胶洗去;步骤四、通过化学或等离子体刻蚀的方式,在晶圆材料表面进行刻蚀,以将没有固化光刻胶覆盖的晶圆材料表面刻蚀;步骤五、将残余的固化光刻胶洗去,得到衍射光学器件;步骤六、对衍射光学器件进行分切,得到单个衍射光学器件。
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