[发明专利]一种二维随机粗糙面散射统计矩的计算方法有效

专利信息
申请号: 201910645357.8 申请日: 2019-07-17
公开(公告)号: CN110489714B 公开(公告)日: 2022-09-30
发明(设计)人: 王明军;思黛蓉;陈新欣;魏亚飞 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: G06F17/15 分类号: G06F17/15;G06F17/17
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 杜娟
地址: 710048 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种二维随机粗糙面散射统计矩的计算方法,具体为:利用Beckmann理论和高斯矩定理,经过严格的理论推导给出了散射场的二阶矩、相干与非相干散射强度及散射场四阶矩的计算公式,可以由散射场高阶矩退化到低阶矩,验证散射场四阶矩函数的正确性,且能够通过随机粗糙表面散射四阶矩函数来分析激光强度探测的质量,并广泛的用于国防和民用领域粗糙面散斑探测问题的研究。
搜索关键词: 一种 二维 随机 粗糙 散射 统计 计算方法
【主权项】:
1.一种二维随机粗糙面散射统计矩的计算方法,其特征在于,具体按照以下步骤实施:/n步骤1,求解散射场的两类双频互相关函数;/n步骤2,经步骤1后,求解散射场的相干与非相干散射强度;/n步骤3,经步骤2后,求解散射场四阶矩函数。/n
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