[发明专利]一种稳定型卡巴他赛晶型及其制备方法在审
| 申请号： | 201910653218.X | 申请日： | 2019-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN110577507A | 公开（公告）日： | 2019-12-17 |
| 发明（设计）人： | 郭维博;张登科 | 申请（专利权）人： | 西安新通药物研究有限公司 |
| 主分类号： | C07D305/14 | 分类号： | C07D305/14 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 710077 陕西省*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明属于药物化学领域，公开了一种非水、非溶剂结晶的稳定型卡巴他赛晶型及其制备方法。本发明所述的稳定型晶型的制备方法，包括将任意晶型的卡巴他赛溶解于氯代烷烃中，加入或被加入于醚类或烷烃类有机溶剂，搅拌析晶后过滤收集产物所得。本发明所述的卡巴他赛稳定型晶型经过X‑射线粉末衍射及热差分析（DSC）和热重分析（TGA）表征，区别于所有已公开的晶型。该卡巴他赛晶型易于控制溶剂残留，长期保存稳定，而且其制备简单、易操作，原料来源广泛，宜于工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 晶型 稳定型 制备 卡巴他赛 烷烃类有机溶剂 过滤收集产物 药物化学领域 控制溶剂 氯代烷烃 热重分析 射线粉末 非溶剂 非水 醚类 析晶 衍射 溶解 残留 分析 | ||
【主权项】：
1.卡巴他赛晶型，其特征在于，所述的卡巴他赛晶型的X-射线粉末衍射图谱的特征峰2θ为：7.2 ±0.2°，8.1 ±0.2°，9.8 ±0.2°，11.1 ±0.2°，12.6 ±0.2°，12.9 ±0.2°，15.3±0.2°，15.8 ±0.2°，16.2 ±0.2°，17.1 ±0.2°，18.5 ±0.2°，19.7 ±0.2°，20.4 ±0.2°，21.9 ±0.2°，22.6 ±0.2°，23.9 ±0.2°，24.3 ±0.2°，25.4 ±0.2°，26.1 ±0.2°，26.6 ±0.2°。优选所述的卡巴他赛晶型的X-射线粉末衍射图谱的特征峰2θ为：7.2°，8.1°，9.8°，11.1°，12.6°，12.9°，15.3°，15.8°，16.2°，17.1°，18.5°，19.7°，20.4°，21.9°，22.6°，23.9°，24.3°，25.4°，26.1°，26.6°。/n
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