[发明专利]掩模版在审
| 申请号： | 201910659005.8 | 申请日： | 2019-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN110320740A | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | 张志伟;陈孝贤 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38;G02B5/28 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供一种掩模版，其包括基底、掩模结构和频谱调节结构；基底呈透明状；掩模结构具有图案，用于形成具有所述图案的膜层，所述掩模结构形成在所述基底上；频谱调节结构，用于调整曝光机光路系统发出光线的频谱，所述频谱调节结构形成在所述掩模结构上。本申请通过频谱调节结构的设置，改善和调整曝光机原先的频谱，以使曝光机和本申请掩模版结合以形成符合特定材料特征的频谱。 | ||
| 搜索关键词： | 频谱调节 掩模结构 曝光机 基底 频谱 掩模版 申请 图案 材料特征 光路系统 结构形成 透明状 膜层 掩模 | ||
【主权项】：
1.一种掩模版，其特征在于，包括：基底，呈透明状；掩模结构，具有图案，用于形成具有所述图案的膜层，所述掩模结构形成在所述基底上；以及频谱调节结构，用于调整曝光机光路系统发出光线的频谱，所述频谱调节结构形成在所述掩模结构上。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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